導(dǎo)航
產(chǎn)品特色
動畫
● 非接觸、非破壞式，量測頭可自由集成在客戶系統(tǒng)內(nèi)
● 初學(xué)者也能輕松解析建模的初學(xué)者解析模式
● 高精度、高再現(xiàn)性量測紫外到近紅外波段內(nèi)的絕對反射率，可分析多層薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)（n：折射率、k：消光系數(shù)）
● 單點對焦加量測在1秒內(nèi)完成
● 顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)（紫外 ~ 近紅外）
● 獨立測試頭對應(yīng)各種inline定制化需求
● 最小對應(yīng)spot約3μm
● 獨家專利可針對超薄膜解析nk
量測項目
● 絕對反射率分析
● 多層膜解析（50層）
● 光學(xué)常數(shù)（n：折射率、k：消光系數(shù)）
膜或者玻璃等透明基板樣品，受基板內(nèi)部反射的影響，無法正確測量。OPTM系列使用物鏡，可以物理去除內(nèi)部反射，即使是透明基板也可以實現(xiàn)高精度測量。此外，對具有光學(xué)異向性的膜或SiC等樣品，也可完全不受其影響，單獨測量上面的膜。
（專利編號 第 5172203 號）
應(yīng)用范圍
● 半導(dǎo)體、復(fù)合半導(dǎo)體：硅半導(dǎo)體、碳化硅半導(dǎo)體、砷化鎵半導(dǎo)體、光刻膠、介電常數(shù)材料
● FPD：LCD、TFT、OLED（有機(jī)EL）
● 資料儲存：DVD、磁頭薄膜、磁性材料
● 光學(xué)材料：濾光片、抗反射膜
● 平面顯示器：液晶顯示器、薄膜晶體管、OLED
● 薄膜：AR膜、HC膜、PET膜等
● 其它：建筑用材料、膠水、DLC等
規(guī)格式樣
（自動XY平臺型）
OPTM-A1 | OPTM-A2 | OPTM-A3 | |
|---|---|---|---|
波長范圍 | 230 ~ 800 nm | 360 ~ 1100 nm | 900 ~ 1600 nm |
膜厚范圍 | 1nm ~ 35μm | 7nm ~ 49μm | 16nm ~ 92μm |
測定時間 | 1秒 / 1點以內(nèi) | ||
光徑大小 | 10μm (最小約3μm) | ||
感光元件 | CCD | InGaAs | |
光源規(guī)格 | 氘燈 鹵素?zé)?/p> | 鹵素?zé)?/p> | |
尺寸 | 556(W) X 566(D) X 618(H) mm (自動XY平臺型的主體部分) | ||
重量 | 66kg（自動XY平臺型的主體部分） | ||
OPTM 選型
自動XY平臺型
固定框架型
嵌入頭型
量測案例
半導(dǎo)體行業(yè) - SiO2、SiN膜厚測定案例
半導(dǎo)體工藝中，SiO2用作絕緣膜，而SiN用作比SiO2更高介電常數(shù)的絕緣膜，或是用作CMP去除SiO2時的阻斷保護(hù)，之后SiN也被去除。絕緣膜的性能像這樣被使用時，為了精確的工藝控制，有必要測量這些膜厚度。
FPD行業(yè) - 彩色光阻膜厚測定
彩色濾光片薄膜的制程中，一般將彩色光阻涂布在整個玻璃表面，通過光刻進(jìn)行曝光顯影留下需要的圖案。RGB三色依次完成此工序。
彩色光阻的厚度不恒定是導(dǎo)致RGB圖案變形、彩色濾光片顏色偏差的原因，因此對彩色光阻的膜厚管理非常重要。
FPD行業(yè) – 用傾斜模式解析ITO構(gòu)造
ITO膜是液晶面板等使用的透明電極材料，制膜后需經(jīng)過退火處理(熱處理)提升導(dǎo)電性和透光性。此時，氧狀態(tài)和結(jié)晶性發(fā)生變化，使得膜厚產(chǎn)生階段性的傾斜變化。在光學(xué)上不能看作是構(gòu)成均一的單層膜。
對這樣的ITO用傾斜模式，由上部界面和下部界面的nk值，對傾斜程度進(jìn)行測量。
半導(dǎo)體行業(yè) – 使用界面系數(shù)測定粗糙基板上的膜厚
如果基板表面非鏡面且粗糙度大，則由于散射，測量光降低且測量的反射率低于實際值。
通過使用界面系數(shù)，因為考慮到了基板表面上的反射率的降低，可以測量出基板上薄膜的膜厚值。
DLC涂層行業(yè) – 各種用途DLC涂層厚度的測量
DLC(類金剛石)涂層由于其高硬度、低摩擦系數(shù)、耐磨性、電絕緣性、高阻隔性、表面改性以及與其他材料的親和性等特征，被廣泛用于各種用途。
采用顯微光學(xué)系統(tǒng)，可以測量有形狀的樣品。此外，監(jiān)視器一邊確認(rèn)檢查測量位置一邊進(jìn)行測量的方式，可以用于分析異常原因。
